Nguyên mẫu nguồn sáng EUV của Trung Quốc lần đầu ra mắt tại Thượng Hải, dự kiến còn 3 đến 5 năm nữa mới sản xuất hàng loạt

Nguyên mẫu nguồn sáng xuất hiện trước công chúng

Startup Langdao Suiyan của Thượng Hải đã trưng bày nguyên mẫu nguồn sáng cực tím bước sóng siêu ngắn (EUV) tại Hội chợ Công nghiệp Quốc tế Trung Quốc lần thứ 26, cho biết 90% linh kiện được sản xuất trong nước, nhưng dự kiến còn ba đến năm năm nữa mới bắt đầu sản xuất hàng loạt. Theo các bài đưa tin ghi ngày tháng 10/2026, sự kiện đưa một bộ phận cụ thể trong nỗ lực phát triển chip tiên tiến của Trung Quốc ra trước công chúng: thiết bị tạo ra ánh sáng dùng để in các mạch điện cực nhỏ.

Sản phẩm trưng bày là nguồn sáng EUV, một bộ phận chủ chốt của máy quang khắc. Một cỗ máy hoàn chỉnh còn cần hệ thống quang học chính xác, bệ định vị tấm wafer silicon, hệ thống chân không và bộ điều khiển để các bộ phận phối hợp hoạt động. Lộ trình Langdao đề cập đến quá trình phát triển nguồn sáng; nhân viên công ty xác định tăng công suất và duy trì hoạt động ổn định trong thời gian dài là những nhiệm vụ chính phía trước.

Đại diện công ty cho biết nguyên mẫu có thể được dùng để thử nghiệm chiếu sáng lên chip. Thông số sản phẩm được cho là của công ty ghi nhận hệ thống công suất thấp FlintNano có công suất đầu ra EUV trên 15 watt và hoạt động liên tục hơn 100 giờ. Công ty không công bố kết quả thử nghiệm độc lập hay chi tiết về kết quả chiếu sáng của nguyên mẫu được trưng bày, khiến hiệu năng trong các thử nghiệm sản xuất chip thực tế vẫn chưa rõ.

Việc phát triển này có ý nghĩa vì các nhà sản xuất chip Trung Quốc không thể mua máy quang khắc EUV của nhà cung cấp Hà Lan ASML do các hạn chế xuất khẩu. Một nguồn sáng nội địa về lâu dài có thể hỗ trợ hình thành chuỗi cung ứng thay thế. Hiện tại, cuộc trưng bày ở Thượng Hải cho thấy một công ty non trẻ đang phát triển một trong những bộ phận đòi hỏi kỹ thuật cao nhất, với nhiều năm nghiên cứu vẫn nằm trong ước tính của chính công ty.

Những gì được trưng bày tại Thượng Hải

Nguyên mẫu của Langdao được đặt ở vị trí khá khiêm tốn trong khu triển lãm Thượng Hải, thuộc sảnh công nghệ đổi mới của hội chợ. Vẻ ngoài thô ráp thu hút sự chú ý, trong khi nhân viên từ chối các cuộc phỏng vấn chính thức với truyền thông. Những mô tả khác về khu trưng bày ghi nhận các giải thích kỹ thuật từ đại diện công ty, bao gồm tỷ lệ linh kiện nội địa được tuyên bố và thời gian dự kiến đưa vào sản xuất.

Langdao cho biết công ty tham dự theo lời mời của Trung tâm Đổi mới Công nghệ Thượng Hải. Nhân viên mô tả sự hiện diện này là cách cho thấy một nhóm Trung Quốc đang nghiên cứu tạo nguồn sáng EUV, đồng thời kêu gọi kiên nhẫn với quá trình phát triển cần nhiều thời gian.

Quang khắc hoạt động bằng cách chiếu sáng một lớp phủ nhạy sáng trên tấm wafer silicon theo một mẫu nhất định. Các bước sản xuất sau đó biến mẫu này thành những phần của mạch điện tử. Ánh sáng EUV có bước sóng khoảng 13,5 nanomet, cho phép thiết bị phù hợp in các mẫu cực nhỏ. Tạo ra ánh sáng đó mới chỉ là bước đầu: máy còn phải định hướng ánh sáng chính xác và tạo ra mức chiếu sáng đồng đều.

Thông số kỹ thuật đã công bố

FlintNano LPP-OXXO của Langdao là hệ thống công suất thấp có thông số kỹ thuật chi tiết nhất được công bố. Công ty xếp dòng FlintNano vào giai đoạn phát triển sản phẩm và thương mại hóa, trong khi dòng FlintMicro-LPP công suất cao hơn đã hoàn tất nghiên cứu nguyên lý và tính khả thi.

Các thông số được cho là của Langdao bao gồm:

• Laser dẫn động có công suất định mức 1.000 watt, hoạt động ở tần số từ 1 đến 20 kilohertz.
• Hiệu suất chuyển đổi trên 2% và công suất đầu ra EUV trên 15 watt.
• Hoạt động liên tục hơn 100 giờ.
• Kích thước plasma 60 micromet.
• Độ ổn định plasma trong phạm vi 3% RMS và độ ổn định công suất đầu ra 5%.

Watt đo công suất, tức tốc độ cung cấp năng lượng. Mức công suất định mức 1.000 watt mô tả công suất do laser dẫn động cung cấp; mức công suất đầu ra EUV mô tả lượng ánh sáng hữu ích do hệ thống tạo ra. Đây là hai giai đoạn khác nhau của quá trình. Kilohertz đo tần số lặp lại, trong đó 1 kilohertz tương đương 1.000 chu kỳ mỗi giây.

Chỉ số ổn định RMS tóm tắt mức dao động trong một khoảng thời gian đo. Đối với nhà sản xuất chip, vấn đề thực tế là mỗi lần chiếu sáng có nhận được lượng ánh sáng đủ đồng đều hay không. Mức dao động có thể ảnh hưởng đến độ chính xác khi tạo mẫu mạch trên lớp phủ của tấm wafer.

Cách tạo ra ánh sáng

Langdao đang theo đuổi công nghệ plasma tạo ra bằng laser, thường được gọi tắt là LPP. Với phương pháp này, một laser công suất lớn chiếu vào các giọt thiếc nhỏ, tạo ra plasma cực nóng phát ra ánh sáng EUV. Plasma là trạng thái vật chất trong đó các nguyên tử mất đi một phần electron. Gương thu gom gom một phần ánh sáng phát ra và hướng ánh sáng đó đến hệ thống chiếu sáng.

Các máy EUV thương mại của ASML cũng sử dụng nguồn LPP. Thách thức kỹ thuật nằm ở việc lặp lại chính xác quy trình, thu gom đủ lượng ánh sáng hữu ích và bảo vệ thiết bị nhạy cảm khỏi tác động của plasma. Dòng giọt thiếc ổn định, laser dẫn động công suất lớn và gương thu gom bền bỉ đều phải phối hợp hoạt động.

Các lĩnh vực kinh doanh rộng hơn của Langdao phản ánh những yêu cầu này. Bên cạnh nguồn sáng EUV, công ty cho biết đang nghiên cứu laser carbon dioxide công suất cao và phần mềm mô phỏng plasma. Laser cung cấp phần cứng dẫn động, còn phần mềm mô phỏng giúp kỹ sư nghiên cứu hành vi của plasma và điều chỉnh điều kiện vận hành.

Các nỗ lực nghiên cứu tại Trung Quốc cũng bao gồm những hướng tiếp cận khác, chẳng hạn plasma phóng điện cảm ứng bằng laser và tạo ánh sáng dựa trên máy gia tốc. Những dự án đó có lịch trình phát triển riêng. Ước tính công khai của Langdao vẫn là ba đến năm năm để nguồn sáng đạt đến giai đoạn sản xuất hàng loạt.

Vì sao công suất cao hơn và tuổi thọ dài hơn quan trọng

Hệ thống EUV thương mại cần nguồn sáng có công suất hàng trăm watt, đồng thời phải hoạt động đáng tin cậy trong quá trình sản xuất cường độ cao. Công suất đầu ra trên 15 watt được Langdao công bố đặt hệ thống công suất thấp của hãng vào một nhóm vận hành khác. Để tiến tới sử dụng trong nhà máy, công ty cần tăng lượng ánh sáng hữu ích được cung cấp mà vẫn duy trì sự ổn định của thiết bị.

Lượng ánh sáng hữu ích nhiều hơn có thể giúp hệ thống quang khắc chiếu sáng wafer nhanh hơn. Điều này ảnh hưởng đến số lượng wafer nhà máy có thể xử lý và chi phí cho mỗi lần chiếu sáng. Độ tin cậy cũng quan trọng không kém: sự cố máy móc có thể làm chậm sản xuất và giảm giá trị của một nguồn sáng vốn có công suất cao.

Gương thu gom là một thách thức đặc biệt vì hoạt động gần plasma giàu năng lượng. Bộ tạo giọt thiếc cũng phải liên tục đưa các giọt đến đúng vị trí, đúng thời điểm. Những thay đổi nhỏ trong một trong hai quy trình đều có thể ảnh hưởng đến ánh sáng chiếu tới wafer.

Thời gian hoạt động hơn 100 giờ mà Langdao công bố tương đương hơn bốn ngày. Khách hàng nhà máy cũng cần thông tin về chu kỳ bảo trì, thay thế linh kiện và hiệu năng qua nhiều chu kỳ vận hành lặp lại. Nhân viên công ty liên hệ trực tiếp phần việc kỹ thuật còn lại với công suất đầu ra và độ ổn định.

Ý nghĩa của tỷ lệ nội địa hóa 90%

Đại diện công ty cho biết 90% linh kiện của nguyên mẫu đã được nội địa hóa, phần lớn bộ phận cốt lõi do công ty tự phát triển. Họ cũng nói về khó khăn khi mua một số linh kiện nhập khẩu và cho biết linh kiện thay thế của Trung Quốc vẫn kém ổn định ở một số khía cạnh.

Langdao không nêu rõ tỷ lệ 90% được tính theo số lượng linh kiện, giá trị hay phương pháp nào khác. Với độc giả, câu hỏi hữu ích là những bộ phận nào vẫn khó thay thế và chúng ảnh hưởng ra sao đến độ tin cậy của toàn hệ thống. Một tỷ lệ nhỏ linh kiện vẫn có thể bao gồm những thiết bị thiết yếu để duy trì hoạt động liên tục.

Nhân viên từ chối nêu tên các bộ phận nhập khẩu còn lại. Phần giải thích của họ cho thấy thách thức kỹ thuật trải rộng trên mạng lưới nhà cung cấp, chứ không chỉ nằm ở khâu lắp ráp của một công ty. Linh kiện nội địa tốt hơn cần có chất lượng đồng đều và tuổi thọ vận hành đáng tin cậy.

Đối với các nhà máy wafer Trung Quốc, một nguồn cung nội địa hoàn thiện về lâu dài có thể giảm mức độ phụ thuộc vào các hạn chế đối với thiết bị và phụ tùng thay thế. Nhiệm vụ hiện tại là biến các thiết kế trong nước thành những linh kiện có thể phối hợp hoạt động ổn định trong thời gian dài.

Startup được các nhà đầu tư trong ngành chip hậu thuẫn

Langdao được thành lập năm 2024. Nhà sáng lập Wang Hao cùng đội ngũ dựa trên nghiên cứu từ Phòng thí nghiệm Phóng điện Khí và Plasma của Đại học Thanh Hoa, tập trung vào công nghệ LPP cho nguồn sáng EUV dùng trong quang khắc.

Quá trình phát triển của công ty đi kèm một số vòng gọi vốn. Các nhà đầu tư được nêu trong những bài viết về hoạt động huy động vốn bao gồm Woyan Capital và China Fortune-Tech Capital, đơn vị có liên hệ với Semiconductor Manufacturing International Corporation, nhà sản xuất chip theo hợp đồng hàng đầu Trung Quốc. Nguồn hỗ trợ này kết nối startup với các nhà đầu tư am hiểu thiết bị bán dẫn và hoạt động sản xuất.

Các mốc được đưa tin diễn ra từ khi thành lập, gọi vốn đến lúc công khai trưng bày:

• 2024: Langdao được thành lập và bắt đầu dự án nguồn sáng EUV.
• Tháng 10/2025: Suiyue Ventures, có liên hệ với Zhangjiang Hi-Tech, rót vốn ở vòng hạt giống.
• Tháng 1/2026: Công ty hoàn tất thêm một vòng gọi vốn hạt giống.
• Tháng 7/2026: Langdao hoàn tất vòng Series A.
• Tháng 10/2026: Nguyên mẫu nguồn sáng lần đầu xuất hiện công khai tại hội chợ công nghiệp Thượng Hải.

Vốn đầu tư cung cấp nguồn lực cho thiết bị, tuyển dụng và phát triển tiếp. Lịch trình do Langdao đưa ra vẫn dự kiến còn vài năm nghiên cứu kỹ thuật sau màn ra mắt công khai, cho thấy khoảng cách giữa việc tài trợ một nguyên mẫu và cung cấp sản phẩm công nghiệp có thể sản xuất lặp lại.

Kiểm soát xuất khẩu tiếp tục gây sức ép phát triển trong nước

ASML là nhà cung cấp thương mại duy nhất các hệ thống quang khắc EUV hoàn chỉnh. Các hạn chế ngăn công ty bán những hệ thống này cho Trung Quốc, khiến phương án thay thế trong nước trở thành ưu tiên chiến lược của các nhà sản xuất Trung Quốc. ASML củng cố năng lực nguồn sáng thông qua thương vụ mua lại Cymer năm 2013, một phần trong quá trình phát triển công nghiệp kéo dài dẫn đến thiết bị ngày nay.

Các nhà sản xuất chip Trung Quốc vẫn sử dụng thiết bị tử ngoại sâu (DUV) để sản xuất. DUV sử dụng bước sóng dài hơn EUV. Các nhà sản xuất có thể dùng kỹ thuật đa tạo hình, chia một mẫu mạch phức tạp thành nhiều bước xử lý, để mở rộng khả năng sản xuất của các máy này. Nhiều bước hơn làm tăng độ phức tạp và chi phí sản xuất.

Tổng giám đốc ASML Christophe Fouquet tỏ ra hoài nghi về tốc độ Trung Quốc có thể bắt kịp công nghệ của công ty. Phát biểu trong một cuộc họp với nhà đầu tư, ông mô tả chặng đường Trung Quốc còn phải đi:

còn một chặng đường rất, rất dài

Ước tính ba đến năm năm của Langdao đưa ra mốc cụ thể hơn cho dự án riêng của công ty. Tính từ lần xuất hiện được đưa tin vào tháng 10/2026, mốc này tương ứng khoảng năm 2029 đến 2031 nếu quá trình phát triển diễn ra như dự kiến. Đây là lịch trình dành cho nguồn sáng; một máy quang khắc hoàn chỉnh còn cần các hệ thống chủ chốt khác đạt mức hiệu năng tương thích.

Tiến bộ ở những lĩnh vực khác đặt EUV vào bối cảnh

Các nhà cung cấp Trung Quốc cũng đang mở rộng ở những công đoạn sản xuất ngoài quang khắc. Tại triển lãm bán dẫn ở Thâm Quyến diễn ra cùng thời điểm, Hwatsing giới thiệu máy cấy ion, Leadmicro trưng bày thiết bị lắng đọng màng mỏng, còn Piotech công bố công nghệ lắng đọng màng carbon dành cho chip nhớ và chip logic.

Những tiến bộ này có ý nghĩa vì một nhà máy wafer phụ thuộc vào nhiều loại thiết bị. Cấy ion làm thay đổi đặc tính điện của những vùng silicon được chọn. Lắng đọng bổ sung các lớp vật liệu mỏng. Quang khắc xác định các mẫu định hướng cho những công đoạn tiếp theo. Tiến bộ trên nhiều công đoạn có thể tăng tỷ lệ sử dụng thiết bị nội địa, ngay cả khi quá trình phát triển EUV vẫn tiếp diễn.

Bernstein Research dự báo các nhà cung cấp trong nước sẽ chiếm 52% thị trường thiết bị chế tạo wafer của Trung Quốc vào năm 2028, so với mức ước tính 28% năm 2026. Đây là mức tăng dự báo 24 điểm phần trăm. Dự báo bao quát thị trường thiết bị rộng hơn nhiều so với lĩnh vực quang khắc EUV.

Những bước tiến đáng chú ý tiếp theo của Langdao sẽ liên quan đến công suất đầu ra cao hơn, độ tin cậy bền vững và hiệu năng chiếu sáng trong quá trình nghiên cứu kỹ thuật mà công ty đã nêu. Cư dân mạng Trung Quốc cũng đặt câu hỏi liệu việc quảng bá khu trưng bày có nhằm mục đích huy động vốn và khơi dậy tinh thần yêu nước hay không. Việc công bố kết quả vận hành chi tiết sẽ giúp khách hàng tiềm năng và nhà đầu tư có thêm thông tin cụ thể về tiến độ sản phẩm.

Điểm chính

• Langdao Suiyan trưng bày nguyên mẫu nguồn sáng EUV tại Thượng Hải; nhân viên công ty tuyên bố 90% linh kiện có nguồn gốc trong nước.
• Sản phẩm trưng bày là nguồn sáng, một trong số những hệ thống chủ chốt cần có trong máy quang khắc EUV hoàn chỉnh.
• Thông số FlintNano được công bố bao gồm công suất đầu ra EUV trên 15 watt và thời gian hoạt động hơn 100 giờ.
• Nhân viên ước tính còn ba đến năm năm nữa mới sản xuất hàng loạt; công suất và độ tin cậy là những nhiệm vụ kỹ thuật chính.
• Công ty được thành lập năm 2024 và thu hút các nhà đầu tư có liên hệ với ngành bán dẫn Trung Quốc.
• Hạn chế xuất khẩu máy EUV của ASML tiếp tục thúc đẩy nỗ lực phát triển thiết bị trong nước của Trung Quốc.